газы и газовые смеси
в баллонах под давлением
в баллонах под давлением
| Назначение | Применение |
| Криптон используют для создания инертной среды в различных объектах (лампах, приборах, и др.), для проведения технологических процессов. Промышленное использование криптона основано на низкой химической активности и специфических физических свойствах инертных газов | Криптон высокой чистоты применяется в различных отраслях промышленности (в том числе электротехнической), в научных исследованиях широкого спектра |
| Показатель | Криптон | |
| Высокой чистоты | Чистый | |
| Объемная доля криптона [Kr], не менее | 99,99 % | 99,88 % |
| Объемная доля ксенона [Xe], не более | 0,005 % | 0,100 % |
| Объемная доля азота [N2], не более | 0,002 % | 0,010 % |
| Объемная доля кислорода [O2], не более | 0,0005 % | 0,0010 % |
| Объемная доля метана [CH4], не более | 0,0001 % | 0,0010 % |
| Объемная доля двуокиси углерода [CO2], не более | 0,0001 % | 0,0010 % |
|
Объемная доля водяного пара, не более что соответствует температуре насыщения криптона и криптоноксеноновой смеси водяными парами при давлении 101,3 кПа (760 мм. рт. ст.), не выше |
0,0005 % минус 65 °C |
0,0013 % минус 58 °C |
| Назначение | Применение |
| Ксенон используют для создания инертной среды в различных объектах (лампах, приборах, и др.), для проведения технологических процессов. Промышленное использование ксенона основано на низкой химической активности и специфических физических свойствах инертных газов | Ксенон высокой чистоты применяется в производстве источников света специальных видов и в других отраслях промышленности |
| Показатель | Ксенон | |
| Высокой чистоты | Чистый | |
| Объемная доля ксенона [Xe], не менее | 99,996 % | 99,960 % |
| Объемная доля криптона [Kr], не более | 0,001 % | 0,020 % |
| Объемная доля aзота [N2], не более | 0,001 % | 0,010 % |
| Объемная доля кислорода [O2], не более | 0,0005 % | 0,0010 % |
| Объемная доля метана [CH4], не более | 0,0001 % | 0,0010 % |
| Объемная доля двуокиси углерода [С02], не более | 0,0001 % | 0,0010 % |
|
Объемная доля водяного пара, не более что соответствует температуре насыщения ксенона водяными парами при давлении 101,3 кПа (760 мм. рт. ст.), не выше |
0,0005 % минус 65 °C |
0,0013 % минус 58 °C |
| Назначение | Применение |
| Неон используют для создания инертной среды в различных объектах (лампах, приборах, и др.), для проведения технологических процессов. Промышленное использование неона основано на низкой химической активности и специфических физических свойствах инертных газов | Неон высокой чистоты применяют в космической и химической промышленности, электронике, в эксимерных лазерах и в составе газовых смесей различного назначения |
| Показатель | Неон высокой чистоты | |
| Объемная доля неона [Ne], не менее | 99,998 % | |
| Содержание примесей, в том числе | объемная доля гелия [He], не более | 8·10-4 % |
| объемная доля азота [N2], не более | 10-4 % | |
| объемная доля кислорода [O2], не более | 5·10-5 % | |
| объемная доля метана [CH4], не более | 10-5 % | |
| объемная доля влаги, не более | 10-4 % | |
| объемная доля водорода [H2], не более | 5·10-5 % | |
